如何评价硅外延片的质量？

外延工艺完成后需要对硅外延层的性能指标进行评估，首先是测试外延片的片内厚度及电阻率均匀性(uniformity)。

在工业化的生产中，片与片间厚度及电阻率的重复性(repeatability)也是重要指标。硅片厂家经常还要考查外延层的扩展电阻率曲线(SRP)，根据曲线的形状和测试结果确定过渡区宽度。

此外，还需要对外延层的表观形貌进行检测，表面检测项目包括弯曲度、翘曲度、局部平整度、表面颗粒以及外延层缺陷等（如划伤、橘皮、滑移线、线状缺陷、层错等）。这些参数直接影响外延片的质量，进而影响后续器件的电学性能和成品率。